ULVAC 工藝監(jiān)控儀 RGM2-202
特點 可以在反應過程中長時間進行穩(wěn)定的測量 采用具有磁場的Claude離子源 軟電離可防止在高靈敏度電離室因熱反應而產生的分解和吸附，同時氣體離解較少 緊湊型流量控制閥 處理室到離子源的距離很短，可以快速響應分辨率 可以測量寬范圍的壓力10-6 to 13kPa（口徑可選） 無需電腦也可以測量 One Click機能（對每個人來說都很容易，不需要復雜的操作） 連接傳感器單元時，*大可以進行120℃的高溫烘烤 離子源，二次電子倍增管的預防性維護分析管加載了可追溯性（**申請中） 可進行氦氣檢漏，漏氣測試 標準搭載軟件（Windows 8/10/11） 用途 CVD/ALD/蝕刻設備 監(jiān)測工藝中的反應氣體 蝕刻和清潔工藝的末端監(jiān)測 殘留氣體測量 檢漏 規(guī)格
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