ULVAC 電弧等離子體蒸發(fā)源 APS-1
特點(diǎn)
納米顆粒的尺寸比傳統(tǒng)的濕法更均勻,因此能夠生產(chǎn)高活性催化劑
納米顆粒尺寸約1.5nm至6nm可選
通過改變環(huán)境可以容易地產(chǎn)生氧化物和氮化物
如果有與ICF 070(VG 50)相當(dāng)?shù)姆ㄌm,無論那個(gè)方向都可以安裝
無需水冷設(shè)備,方便維護(hù)
用途
多個(gè)蒸發(fā)源化合物的生成
添加到現(xiàn)有的真空室
規(guī)格
目標(biāo)尺寸 | Φ 10mm × L 17 mm |
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基底尺寸 | Φ 2 inch (Φ 50 mm) |
沉積速率 | 0.01 nm/s ~ 0.3 nm/s *1 |
薄膜厚度均勻性 | Fe: < ± 10 % (Φ 20 mm area) *1 |
可用于沉積的材料 | 導(dǎo)電材料 *2 |
*1 目標(biāo)到基底的距離: 80 毫米
*2 靶材的比電阻:0.01Ω 厘米或以下
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